最新のEUV(極端紫外線)露光装置が故障した――。2月下旬、米カリフォルニア州で開催された国際光工学会(SPIE)。次世代の半導体製造技術の動向に注目する参加者の間で“隠れた大ニュース”になったのは、半導体製造大手、台湾TSMCの幹部の言葉だった。

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